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GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設(shè)有4個蒸鍍加熱舟，每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍，加熱舟上方有一個可旋轉(zhuǎn)擋板，當(dāng)其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實現(xiàn)對有機材料的蒸發(fā)鍍膜，可滿足發(fā)光器件及有機太陽能電池方面的研究要求，是一款鍍膜效果理想

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍，一個弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗

GSL-1800X-ZF-AM連續(xù)式多腔室蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一款高真空的可連續(xù)進樣的蒸發(fā)鍍膜儀，主要由傳遞室和蒸發(fā)鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現(xiàn)往復(fù)運動，由調(diào)頻電機控制，自動同步運行，且往復(fù)位置和運動速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實現(xiàn)原點復(fù)位。特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。

VTC-600GC-AM連續(xù)式多腔室磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現(xiàn)往復(fù)運動，由調(diào)頻電機控制，自動同步運行，且往復(fù)位置和運動速度均可以設(shè)定，兩室內(nèi)均有定位功能，可實現(xiàn)原點復(fù)位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設(shè)備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。